摘要附圖（申請(qǐng)專利）
(2005-8-8)
１．格式 摘要附圖
�。玻f(shuō)明
申請(qǐng)發(fā)明或者實(shí)用新型專利時(shí)可以提交說(shuō)明書(shū)摘要附圖一式兩份（正副本各一
份）。說(shuō)明書(shū)摘要附圖只允許選用最能說(shuō)明發(fā)明或者實(shí)用新型的一幅，它可以與說(shuō)
明書(shū)附圖中某幅相同，也可以不同于所有的說(shuō)明書(shū)附圖。紙張只限于使用正面，四
周須留有空白，左側(cè)和頂部各留２．５厘米，右側(cè)和底部各留１．５厘米。附圖應(yīng)
當(dāng)使用制圖工具和黑色墨水繪制，線條應(yīng)當(dāng)清晰。圖中各部分按比例繪制。
